成都新德南光機械設備公司 > 真空氫氣爐

真空氫氣爐

來源： | 發布時間：2021-10-30 |

真空氫氣爐設計原理

真空氫氣爐主要用于金屬及非金屬材料的真空氫氣還原，硬質合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空／氣氛高溫燒結處理，軟磁材料的真空氫氣退火以及真空釬焊、真空高溫回火等工藝。設備設計溫度在1600℃以下（由客戶提供）。
VHS系列單室真空氣淬爐采用前開門裝料型式，由真空爐體、爐膽、真空系統、氫氣還原系統、快速充氣系統（氮氣）、風冷系統、溫度和真空控制系統、加熱電源、水冷系統和爐外裝料車等部分組成。
優點：本設備糅合了國際前進技術，采用負壓脈沖充氫氣和恒壓流動充氫氣燒結的新方法，達到即節約氣源又使材料充分還原提純的目的，同時又使設備具有突出的安全性能。

真空氫氣爐技術參數

最高爐溫：1600℃          爐溫均勻性：<±5℃，   極限真空度：10-1／10-4Pa可選
壓升率： 0.65Pa／h，       爐膽：石墨／鉬可選